GR2 GR5 शुद्ध टाइटेनियम लक्ष्य कोटिंग उद्योग टाइटेनियम मिश्र धातु Ti6Al4V

 उच्च गुणवत्ता वाले टाइटेनियम लक्ष्य GR2 GR5 टाइटेनियम मिश्र धातु Ti6Al4V

"टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य" में "लक्ष्य" शब्द हमारे दैनिक जीवन में सामान्य लक्ष्य सामग्री से आया है।स्पटरिंग जमाव प्रक्रिया में, कोटिंग सामग्री पर इलेक्ट्रॉन बीम या आयन बीम द्वारा बमबारी की जाती है, जैसे लक्ष्य को मारा जाता है, इसलिए स्पटरिंग प्रक्रिया में उपयोग की जाने वाली सामग्री को "स्पटरिंग लक्ष्य" कहा जाता है।

धातु टाइटेनियम से लेकर टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य तक

टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य कच्चे माल के रूप में टाइटेनियम धातु से बना एक टाइटेनियम उत्पाद है, जिसका उपयोग स्पटरिंग द्वारा टाइटेनियम फिल्म का उत्पादन करने के लिए किया जाता है।संक्षेप में, धातु टाइटेनियम कास्टिंग विधि और पाउडर धातुकर्म विधि के साथ टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य के निर्माण की दो विधियाँ हैं।

कास्टिंग: कच्चे माल को एक निश्चित अनुपात के साथ पिघलाएं, मिश्र धातु के घोल को सिल्लियां बनाने के लिए सांचे में डालें, और अंत में उन्हें स्पटरिंग लक्ष्य में मशीन में डालें।विधि निर्वात में पिघलाना और ढालना है।

पाउडर धातुकर्म: कच्चे माल को एक निश्चित अनुपात में पिघलाएं, उन्हें सिल्लियों में डालें, उन्हें कुचलें, आइसोस्टैटिक पाउडर को दबाएं, और फिर लक्ष्य बनाने के लिए उन्हें उच्च तापमान पर सिंटर करें।

उत्पाद का नाम: टाइटेनियम लक्ष्य स्पटरिंग

सामग्री: शुद्ध टाइटेनियम: GR1 GR2

शुद्धता>=99.6%

अनुप्रयोग: हार्डवेयर, सजावट, उपकरण, चीनी मिट्टी की चीज़ें, गोल्फ और अन्य कोटिंग उद्योग।

आयाम:

गोल स्पटरिंग लक्ष्य: Φ100×40, Φ95×45, Φ80×40, Φ90×40, Φ85×35 और अन्य विशिष्ट आकार।

ट्यूब स्पटरिंग लक्ष्य: Φ70×7×L900--2000mm, Φ89.4mmX7.62mmX1728mm,Φ89.4mmX15mmX1728mm, Φ80mmX10mmX1728mm, और अन्य विशिष्ट आकार।

प्लेट स्पटरिंग लक्ष्य: T6-40×W60--800×L600--2000mm और अन्य विशिष्ट आकार।

हम ग्राहकों की आवश्यकताओं के अनुसार मिश्र धातु लक्ष्यों को विभिन्न अनुपातों में अनुकूलित कर सकते हैं

विस्तृत चित्र:

सामग्री:

1) Ti/Al मिश्रधातु लक्ष्य (67:33,50:50at%)

2) W/Ti मिश्र धातु लक्ष्य (90:10wt%),

3) नी/वी मिश्रधातु लक्ष्य (93:7, भार%)

4) नी/सीआर मिश्र धातु लक्ष्य (80:20, 70:30, वजन%),

5) अल/सीआर मिश्र धातु लक्ष्य (70:30,50:50at%)

6) Nb/Zr मिश्र धातु लक्ष्य (97:3,90:10wt%)

7) सी/अल मिश्र धातु लक्ष्य (90:10, 95:5, 98:2, 70:30, भार%)

8) Zn/Al मिश्र धातु लक्ष्य

9) उच्च शुद्धता क्रोमियम लक्ष्य (99.95%, 99.995%)

10) अल/सीआर मिश्र धातु लक्ष्य (70:30, 50:50, 67:33,% पर)

11) Ni/Cu मिश्र धातु लक्ष्य (70:30, 80:20, वजन%)

12) अल/एनडी मिश्र धातु लक्ष्य (98:2wt%)

13) एमओ/एनबी मिश्र धातु लक्ष्य (90:10, वजन%)

14) TiAlSi मिश्र धातु लक्ष्य (Ti/Al/Si=30/60/10, 33/67, 40/50/10, wt% और% पर)

15)CrAlSi मिश्र धातु लक्ष्य (Cr/Al/Si=30/60/10, wt% और% पर)