पीवीडी वैक्यूम कोटिंग मशीन के लिए उच्च शुद्धता टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य

पीवीडी वैक्यूम कोटिंग मशीन के लिए उच्च शुद्धता टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य

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उच्च शुद्धता वाले टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य

टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्यों के लिए बुनियादी आवश्यकताएंः

सामान्य तौर पर, यह मापने के लिए निम्नलिखित संकेतकों पर विचार किया जाएगा कि क्या स्पटरिंग लक्ष्य मुख्य आवश्यकताओं को पूरा करता हैः

शुद्धताः शुद्धता का स्पटर फिल्म के प्रदर्शन पर बहुत प्रभाव पड़ता है। उदाहरण के लिए टाइटेनियम लक्ष्य लें, शुद्धता जितनी अधिक होगी, संक्षारण प्रतिरोध उतना ही बेहतर होगा,छिद्रित फिल्म के विद्युत और ऑप्टिकल गुण.

अशुद्धियों की मात्राः लक्ष्य ठोस और छिद्रों में ऑक्सीजन और जल वाष्प में अशुद्धियां अवशेष फिल्म के प्रदूषण के मुख्य स्रोत हैं।विभिन्न लक्ष्य सामग्रियों में उनकी अशुद्धियों की मात्रा के लिए अलग-अलग आवश्यकताएं होती हैं.

घनत्वः लक्ष्य का घनत्व न केवल स्पटरिंग दर को प्रभावित करेगा, बल्कि फिल्म के विद्युत और ऑप्टिकल गुणों को भी प्रभावित करेगा।लक्ष्य ठोस में छिद्रता को कम करने और स्पटर फिल्म के प्रदर्शन में सुधार करने के लिए, लक्ष्य को आमतौर पर उच्च घनत्व की आवश्यकता होती है।

अनाज का आकार और अनाज का वितरणः एक ही लक्ष्य के लिए, ठीक अनाज लक्ष्य की स्पटरिंग दर मोटे अनाज लक्ष्य की तुलना में तेज है;कण आकार का अंतर जितना छोटा होगा (एक समान वितरण), लक्ष्य स्पटरिंग जमाव फिल्म की मोटाई अधिक समान है।

विस्तृत चित्र:

पैकेजिंगःप्रत्येक टाइटेनियम लक्ष्य को एक अनुकूलित वैक्यूम प्लास्टिक बैग में पैक किया जाता है, जो बीच में फोम फिल्म और मोती कपास से भरा होता है, और बाहर एक फ्यूमिगेशन-मुक्त प्लाईवुड केस होता है।अंतरराष्ट्रीय परिवहन मानकों का अनुपालन, यह सुनिश्चित करने के लिए कि माल परिवहन में सुरक्षित है।

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