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उत्पादों का विवरण

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टाइटेनियम लक्ष्य
Created with Pixso.

पीवीडी कोटिंग के लिए टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य

पीवीडी कोटिंग के लिए टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य

ब्रांड नाम: LHTi
मॉडल संख्या: Titanium Target
न्यूनतम आदेश मात्रा: 100 pieces
कीमत: विनिमय योग्य
भुगतान की शर्तें: एल/सी, डी/ए, डी/पी, टी/टी, वेस्टर्न यूनियन,
आपूर्ति करने की क्षमता: 5000 Pieces Per Month
विस्तृत जानकारी
Place of Origin:
Baoji, Shaanxi, China
प्रमाणन:
ISO9001, CE, API,etc
निर्माण विधि:
हॉट आइसोस्टेटिक प्रेसिंग (एचआईपी)
केबल लंबाई:
34 इंच
पकड़:
मुड़ा हुआ
लक्ष्य रंग:
लाल और सफ़ेद
नमूना:
उपलब्ध
तन्यता ताकत:
344 एमपीए
संकल्प:
1080 x 2400 पिक्सेल
लक्ष्य प्रकार:
शिकार करना
पाउडर या नहीं:
शक्ति नहीं
घनत्व:
4.51 ग्राम/सेमी3
सामग्री:
टाइटेनियम मिश्र धातु
कनेक्टिविटी:
ब्लूटूथ
अनुप्रयोग:
अर्धचालक, एयरोस्पेस, चिकित्सा
रंग:
चाँदी
डिज़ाइन:
चिकना
Packaging Details:
All goods are packed by seaworth shipment materials or required by buyer
Supply Ability:
5000 Pieces Per Month
प्रमुखता देना:

ग्रेड-7 टाइटेनियम लक्ष्य

,

सिलिकॉन स्पटरिंग टाइटेनियम लक्ष्य

,

पीवीडी वैक्यूम कोटिंग मशीन टाइटेनियम लक्ष्य

उत्पाद वर्णन

पीवीडी कोटिंग के लिए टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य

यह टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य टाइटेनियम धातु से बना है और स्पटरिंग द्वारा टाइटेनियम फिल्मों को जमा करने के लिए उपयोग किया जाता है। इसका उत्पादन वैक्यूम मेल्टिंग और कास्टिंग, या पाउडर धातु विज्ञान द्वारा आइसोस्टैटिक प्रेसिंग और उच्च तापमान सिंटरिंग के साथ किया जाता है, ग्रेड Gr1, Gr2, Gr5, Gr7 और Gr12 के साथ-साथ Ti-Al, Ti-Cr और Ti-Zr जैसे मिश्र धातु लक्ष्य भी। लक्ष्य 4.51 ग्राम/सेमी3 के घनत्व और 99.5% न्यूनतम टाइटेनियम सामग्री के साथ जाली और सीएनसी मशीनिंग किए जाते हैं, और पीवीडी कोटिंग, सेमीकंडक्टर, ग्लास कोटिंग और सतह कोटिंग प्रक्रियाओं में उपयोग किए जाते हैं।

Titanium sputtering target

Titanium target for PVD coating

तकनीकी विशिष्टताएँ

उत्पाद का नाम टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य
ग्रेड Gr1, Gr2, Gr5, Gr7, Gr12; मिश्र धातु लक्ष्य Ti-Al, Ti-Cr, Ti-Zr
टाइटेनियम सामग्री 99.5% न्यूनतम (शुद्ध टाइटेनियम Gr1, Gr2: शुद्धता 99.6% न्यूनतम)
अशुद्धता सामग्री 0.04% से कम
घनत्व 4.51 ग्राम/सेमी3
मानक ASTM B348, ASTM B381
तकनीक जाली और सीएनसी मशीनिंग
रंग चांदी

उपलब्ध लक्ष्य आकार

आकार आकार सीमा
गोल लक्ष्य Ø30 - 2000 मिमी, मोटाई 3.0 - 300 मिमी
प्लेट लक्ष्य लंबाई 200 - 500 मिमी, चौड़ाई 100 - 230 मिमी, मोटाई 3 - 40 मिमी
ट्यूब लक्ष्य व्यास 30 - 200 मिमी, मोटाई 5 - 20 मिमी, लंबाई 500 - 2000 मिमी
कस्टम आकार अनुरोध पर उपलब्ध

लक्ष्य प्रकार और अनुप्रयोग

लक्ष्य प्रकार विशिष्ट उपयोग
शुद्ध टाइटेनियम लक्ष्य हार्डवेयर, सजावट, उपकरण, सिरेमिक, गोल्फ और अन्य कोटिंग उद्योग
मिश्र धातु लक्ष्य (Ti-Al, Ti-Cr, Ti-Zr) फिल्म कोटिंग और सतह कोटिंग, अनुरोध पर विभिन्न अनुपातों में निर्मित
स्पटरिंग कोटिंग सेमीकंडक्टर पृथक्करण, भंडारण इलेक्ट्रोड कोटिंग और ग्लास कोटिंग उद्योग

अनुप्रयोग और टाइटेनियम लाभ

टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्यों का उपयोग स्पटरिंग कोटिंग, सतह कोटिंग और ग्लास कोटिंग के लिए, और सेमीकंडक्टर, सजावट, उपकरण और सिरेमिक उद्योगों में किया जाता है। टाइटेनियम उच्च शुद्धता, अच्छा संक्षारण प्रतिरोध और स्थिर फिल्म गुणवत्ता प्रदान करता है, इसलिए जमा की गई फिल्में मांग वाली कोटिंग प्रक्रियाओं में समान और टिकाऊ होती हैं।

गुणवत्ता, अनुकूलन और पूछताछ

LHTi इन लक्ष्यों का उत्पादन ASTM B348 और ASTM B381 के अनुसार करता है और ग्राहकों की जरूरतों को पूरा करने के लिए विभिन्न अनुपातों में मिश्र धातु लक्ष्य की आपूर्ति कर सकता है। नमूने उपलब्ध हैं, और माल समुद्री योग्य शिपमेंट सामग्री में या खरीदार की आवश्यकतानुसार पैक किए जाते हैं। कोटेशन के लिए कृपया अपना ड्राइंग या विनिर्देश भेजें।