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उत्पादों का विवरण

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टाइटेनियम लक्ष्य
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उच्च शुद्धता टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य ASTM B348

उच्च शुद्धता टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य ASTM B348

ब्रांड नाम: LHTI
मॉडल संख्या: एलएच-10
न्यूनतम आदेश मात्रा: 10 टुकड़े
कीमत: US dollar $ 25.5/pc--US dollar $125/pc
भुगतान की शर्तें: एल/सी, डी/पी, टी/टी, वेस्टर्न यूनियन, पेपैल आदि
आपूर्ति करने की क्षमता: प्रति सप्ताह 5000 टुकड़ा
विस्तृत जानकारी
उत्पत्ति के प्लेस:
चीन
प्रमाणन:
ISO9001
प्रोडक्ट का नाम:
पीवीडी वैक्यूम कोटिंग मशीन के लिए उच्च शुद्धता टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य
सामग्री:
शुद्ध टाइटेनियम, टाइटेनियम मिश्र धातु
आवेदन:
कोटिंग उद्योग, स्पटरिंग वैक्यूम कोटिंग उद्योग
कीवर्ड:
टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य
पैकेट:
प्लाईवुड का मामला हो या अपनी आवश्यकता के अनुसार
पैकेजिंग विवरण:
पर्ल कॉटन रैप या सीलबंद पैकेजिंग, बाहर मानक कार्टन केस या प्लाईवुड केस है, या पैकेज के लिए आपकी आवश्
आपूर्ति की क्षमता:
प्रति सप्ताह 5000 टुकड़ा
प्रमुखता देना:

उच्च शुद्धता टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य

,

पीवीडी वैक्यूम कोटिंग मशीन टाइटेनियम लक्ष्य

,

शुद्ध टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य

उत्पाद वर्णन

उच्च शुद्धता टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य ASTM B348

यह उच्च शुद्धता टाइटैनियम sputtering लक्ष्य ग्रेड 1, ग्रेड 2, ग्रेड 5, ग्रेड 7 और ग्रेड 12 टाइटैनियम से 99.5% न्यूनतम की टाइटेनियम सामग्री और 0.04% से नीचे की अशुद्धता सामग्री के साथ उत्पादित किया जाता है।Targets are forged and CNC machined to ASTM B348 and ASTM B381 with a density of 4 लक्ष्य का निर्माण किया जाता है और एएसटीएम बी 348 और एएसटीएम बी 381 के लिए सीएनसी मशीन से 4 की घनत्व के साथ.51 या 4.50 g/cm3, और alloy targets such as Ti-Al, Ti-Cr and Ti-Zr as well as chrome, zirconium, copper and tungsten can also be supplied.

तकनीकी विनिर्देश

उत्पाद का प्रकार टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य
सामग्री शुद्ध टाइटेनियम और टाइटेनियम मिश्र धातु (Gr1, Gr2, Gr5, Gr7, Gr12)
टाइटेनियम सामग्री 990.5% मिनट
अशुद्धता सामग्री 0.04% से नीचे
घनत्व 4.51 या 4.50 ग्राम/सेमी3
मानक एएसटीएम बी348, एएसटीएम बी381
तकनीक कढ़ाई और सीएनसी मशीनिंग
आवेदन अर्धचालक पृथक्करण, फिल्म कोटिंग, भंडारण इलेक्ट्रोड कोटिंग, स्पटरिंग कोटिंग, सतह कोटिंग, ग्लास कोटिंग

उपलब्ध लक्ष्य आकार और आकार

लक्ष्य आकार आकार सीमा मोटाई
गोल लक्ष्य व्यास 30 - 2000 मिमी 3.0 मिमी - 300 मिमी
प्लेट लक्ष्य लंबाई 200 - 500 मिमी, चौड़ाई 100 - 230 मिमी 3 मिमी - 40 मिमी
ट्यूब लक्ष्य व्यास 30-200 मिमी, लंबाई 500-2000 मिमी 5 मिमी - 20 मिमी
अनुकूलित अनुरोध पर उपलब्ध अनुरोध पर

अनुप्रयोग और टाइटेनियम के फायदे

टाइटेनियम sputtering लक्ष्य अर्धचालक जुदाई, फिल्म कोटिंग, भंडारण इलेक्ट्रोड कोटिंग, sputtering कोटिंग, सतह कोटिंग और ग्लास कोटिंग उद्योग में उपयोग किया जाता है।शुद्धता स्पटर फिल्म के प्रदर्शन को बहुत प्रभावित करती है, क्योंकि उच्च शुद्धता बेहतर संक्षारण प्रतिरोध और बेहतर विद्युत और ऑप्टिकल गुण देता है।फिल्म प्रदूषण के मुख्य स्रोत हैं, और घनत्व स्पटरिंग दर और फिल्म की विद्युत और ऑप्टिकल गुणवत्ता दोनों को प्रभावित करता है।एक ठीक और समान रूप से वितरित अनाज संरचना तेजी से sputters और एक और भी फिल्म मोटाई पैदा करता है.

गुणवत्ता, अनुकूलन और जांच

Targets are forged and CNC machined under ISO9001 quality control and packed in vacuum plastic bags with foam and pearl cotton inside a fumigation-free plywood case to meet international transport standards. आकार, ग्रेड और मात्रा अनुकूलित किया जा सकता है, मासिक क्षमता 5000 टुकड़े तक पहुँचता है और वितरण आम तौर पर 15-20 दिन लगते हैं.शुद्धता आवश्यकता और मात्रा so that we can prepare a quote.

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