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उत्पादों का विवरण

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टाइटेनियम लक्ष्य
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पीवीडी वैक्यूम कोटिंग मशीन के लिए उच्च शुद्धता टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य

पीवीडी वैक्यूम कोटिंग मशीन के लिए उच्च शुद्धता टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य

ब्रांड नाम: LHTI
मॉडल संख्या: एलएच-10
न्यूनतम आदेश मात्रा: 10 टुकड़े
कीमत: US dollar $ 25.5/pc--US dollar $125/pc
भुगतान की शर्तें: एल/सी, डी/पी, टी/टी, वेस्टर्न यूनियन, पेपैल आदि
आपूर्ति करने की क्षमता: प्रति सप्ताह 5000 टुकड़ा
विस्तृत जानकारी
उत्पत्ति के प्लेस:
चीन
प्रमाणन:
ISO9001
उत्पाद का नाम:
पीवीडी वैक्यूम कोटिंग मशीन के लिए उच्च शुद्धता टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य
सामग्री:
शुद्ध टाइटेनियम, टाइटेनियम मिश्र धातु
आवेदन:
कोटिंग उद्योग, स्पटरिंग वैक्यूम कोटिंग उद्योग
कीवर्ड:
टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य
पैकेज:
प्लाईवुड का मामला हो या अपनी आवश्यकता के अनुसार
पैकेजिंग विवरण:
पर्ल कॉटन रैप या सीलबंद पैकेजिंग, बाहर मानक कार्टन केस या प्लाईवुड केस है, या पैकेज के लिए आपकी आवश्
आपूर्ति की क्षमता:
प्रति सप्ताह 5000 टुकड़ा
प्रमुखता देना:

उच्च शुद्धता टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य

,

पीवीडी वैक्यूम कोटिंग मशीन टाइटेनियम लक्ष्य

,

शुद्ध टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य

उत्पाद वर्णन

पीवीडी वैक्यूम कोटिंग मशीन के लिए उच्च शुद्धता टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य

 

  

उच्च शुद्धता वाले टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य

 

उत्पाद का नाम पीवीडी कोटिंग मशीन के लिए टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य
ग्रेड

टाइटेनियम (Gr1, Gr2, Gr5, Gr7, GR12)

मिश्र धातु लक्ष्यः Ti-Al, Ti-Cr, Ti-Zr आदि

अन्य सामग्रीःक्रोम,जिरकोनियम, तांबा,टंगस्टन आदि।

उत्पत्ति बाओजी शहर, शानक्सी प्रांत, हिना
टाइटेनियम सामग्री ≥99.5 (%)
अशुद्धियों की मात्रा <0.04 ((%)
घनत्व 4.51 या 4.50 g/cm3
मानक एएसटीएम बी348, एएसटीएम बी381

 

आकार

1गोल लक्ष्यः Ø30-2000 मिमी, मोटाई 3.0 मिमी-300 मिमी;

2प्लेट टारगेट: लंबाईः 200-500 मिमी चौड़ाईः 100-230 मिमी मोटाईः 3-40 मिमी

3ट्यूब लक्ष्यः व्यास 30-200 मिमी मोटाई 5-20 मिमी लंबाई 500-2000 मिमी

4. अनुकूलित उपलब्ध है

तकनीक फोल्ड और सीएनसी मशीनिंग
आवेदन अर्धचालक पृथक्करण, फिल्म कोटिंग सामग्री, स्टोरेज इलेक्ट्रोड कोटिंग, स्पटरिंग कोटिंग, सतह कोटिंग, ग्लास कोटिंग उद्योग।

 

टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्यों के लिए बुनियादी आवश्यकताएंः

सामान्य तौर पर, यह मापने के लिए निम्नलिखित संकेतकों पर विचार किया जाएगा कि क्या स्पटरिंग लक्ष्य मुख्य आवश्यकताओं को पूरा करता हैः

 

शुद्धताः शुद्धता का स्पटर फिल्म के प्रदर्शन पर बहुत प्रभाव पड़ता है। उदाहरण के लिए टाइटेनियम लक्ष्य लें, शुद्धता जितनी अधिक होगी, संक्षारण प्रतिरोध उतना ही बेहतर होगा,छिद्रित फिल्म के विद्युत और ऑप्टिकल गुण.

 

अशुद्धियों की मात्राः लक्ष्य ठोस और छिद्रों में ऑक्सीजन और जल वाष्प में अशुद्धियां अवशेष फिल्म के प्रदूषण के मुख्य स्रोत हैं।विभिन्न लक्ष्य सामग्रियों में उनकी अशुद्धियों की मात्रा के लिए अलग-अलग आवश्यकताएं होती हैं.

 

घनत्वः लक्ष्य का घनत्व न केवल स्पटरिंग दर को प्रभावित करेगा, बल्कि फिल्म के विद्युत और ऑप्टिकल गुणों को भी प्रभावित करेगा।लक्ष्य ठोस में छिद्रता को कम करने और स्पटर फिल्म के प्रदर्शन में सुधार करने के लिए, लक्ष्य को आमतौर पर उच्च घनत्व की आवश्यकता होती है।

 

अनाज का आकार और अनाज का वितरणः एक ही लक्ष्य के लिए, ठीक अनाज लक्ष्य की स्पटरिंग दर मोटे अनाज लक्ष्य की तुलना में तेज है;कण आकार का अंतर जितना छोटा होगा (एक समान वितरण), लक्ष्य स्पटरिंग जमाव फिल्म की मोटाई अधिक समान है।

 

विस्तृत चित्र:

पीवीडी वैक्यूम कोटिंग मशीन के लिए उच्च शुद्धता टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य 0पीवीडी वैक्यूम कोटिंग मशीन के लिए उच्च शुद्धता टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य 1पीवीडी वैक्यूम कोटिंग मशीन के लिए उच्च शुद्धता टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य 2

 

 

पैकेजिंगःप्रत्येक टाइटेनियम लक्ष्य को एक अनुकूलित वैक्यूम प्लास्टिक बैग में पैक किया जाता है, जो बीच में फोम फिल्म और मोती कपास से भरा होता है, और बाहर एक फ्यूमिगेशन-मुक्त प्लाईवुड केस होता है।अंतरराष्ट्रीय परिवहन मानकों का अनुपालन, यह सुनिश्चित करने के लिए कि माल परिवहन में सुरक्षित है।

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हमारी कंपनी के बारे मेंः

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